就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級(jí)無塵烘箱
-
氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS烘箱 HMDS真空烘箱適用于芯片制造的襯底種類
來源:
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作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
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發(fā)布時(shí)間: 2024-05-28
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HMDS烘箱 HMDS真空烘箱適用于芯片制造的襯底種類：
1、單晶硅片
目前最普遍的襯底材料，廣泛用于制造集成電路（IC）、微處理器、存儲(chǔ)器、MEMS器件、功率器件等
2、SOI襯底
用于高性能、低功耗的集成電路，如高頻模擬和數(shù)字電路、RF器件和電源管理芯片。
3、SiGe襯底
SiGe ，鍺硅，是一種硅和鍺任意摩爾比的合金，分子式為 Si 1? x Ge x，常用外延的方式制作。用于異質(zhì)結(jié)雙極晶體管，混合信號(hào)電路，射頻等領(lǐng)域
4、化合物半導(dǎo)體襯底
砷化鎵襯底（GaAs ）：微波和毫米波通信器件等
氮化鎵襯底（GaN ）：用于射頻功率放大器，HEMT等
碳化硅襯底（SiC ）：用于電動(dòng)汽車、電源轉(zhuǎn)換器等電力器件
磷化銦襯底（InP ）：用于激光器、光探測(cè)器等
5、藍(lán)寶石襯底：用于LED制造、RFIC（射頻集成電路）等
6、鍺襯底:用于紅外光電器件等
7、LN（鈮酸鋰）：用于聲表濾波器，mems等
8、LT（鉭酸鋰）：用于聲表濾波器,mems等
9、玻璃基板：用于LCD、OLED、光學(xué)濾波器等
等等
HMDS烘箱 HMDS真空烘箱性能：
容量：2-12寸晶圓、方片、碎片等
材質(zhì)：內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼
工藝溫度：100-150℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：≤±0.5
真空度：≤133pa（1torr）
操作界面：人機(jī)界面，一鍵作業(yè)
腔內(nèi)分層:2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
圖像處理：圖像反轉(zhuǎn)
真空泵: 進(jìn)口無油泵
保護(hù)裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報(bào)&警提示，HMDS低液位報(bào)&警，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等
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