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涂膠預(yù)處理HMDS系統(tǒng) HMDS處理涂底系統(tǒng)科研實(shí)驗(yàn)室利器

來源: | 作者:上海雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2026-01-31 | 187 次瀏覽 | ?? 點(diǎn)擊朗讀正文 ?? ? | 分享到:

涂膠預(yù)處理HMDS系統(tǒng) HMDS處理涂底系統(tǒng)應(yīng)用于光刻工藝

涂膠預(yù)處理(HMDS)系統(tǒng)涂底為了增強(qiáng)晶圓表面的黏附性，通常使用六甲基二硅亞胺（HMDS）進(jìn)行處理。將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

涂膠預(yù)處理HMDS系統(tǒng) HMDS處理涂底系統(tǒng)應(yīng)工藝性能

HMDS藥液泄漏報(bào)警提示系統(tǒng)

HMDS低液位提示

工藝數(shù)據(jù)記錄功能

程序互鎖定保護(hù)等功能

產(chǎn)品兼容：2-12寸晶圓及碎片，多個(gè)cassette，（可定制）

溫度范圍：RT-200℃

真空度：≤1torr

操作方式：人機(jī)界面，一鍵運(yùn)行

儲(chǔ)液瓶：HMDS儲(chǔ)液瓶

真空泵：無油渦旋真空泵

數(shù)據(jù)處理：多個(gè)工藝方案，可修改并保存，使用數(shù)據(jù)可記錄