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一種電潤(rùn)濕顯示器件用的下基板、電潤(rùn)濕顯示器件及制備方法，包括以下步驟：

 第一步：在硅基片上整面沉積非金屬的電極層 ；

第二步：在沉積有非金屬電極層的硅基片上面均勻涂覆一層正性光阻，將光阻干燥后，曝光、顯影、干燥，在硅基片上形成與預(yù)定的電極圖案相同的光阻圖案；

第三步：以形成的該光阻圖案為掩膜，用蝕刻液將未被光阻覆蓋的非金屬電極層刻蝕 掉，然后剝離光阻，形成預(yù)定的電極圖案；

第四步：在制作好電極圖案的硅基片上面沉積介質(zhì)層，將原制作 好的顯示區(qū)域內(nèi)的電極完全覆蓋；

第五步：對(duì)介質(zhì)層表面進(jìn)行疏水性處理，處理過(guò)程在HMDS預(yù)處理烘箱中進(jìn)行，在封閉的真空腔體內(nèi)將HMDS氣化后均勻涂覆在置于腔體內(nèi)的樣品表面，處理溫度為100-200C ；

 第六步：在介質(zhì)層上面涂覆正性光阻，用像素絕緣層的掩膜覆蓋、曝光、顯影、干燥，最 終形成像素絕緣層圖案。

HMDS預(yù)處理烘箱工藝的作用

1.脫水烘烤，在成底膜和涂光刻膠之前必須進(jìn)行脫水烘烤處理；一般在溫度設(shè)定在150-200℃之間，在真空+充氮的氣氛中處理效果更好。

2.HMDS涂覆，在系統(tǒng)真空狀態(tài)下，將HMDS藥液吸入系統(tǒng)內(nèi)并氣化，氣化后的HMDS將均勻的涂覆在基地的表面。

3.堅(jiān)膜烘烤，HMDS氣化完成后，在系統(tǒng)內(nèi)保持一定的時(shí)間，使得HMDS涂覆更加有效。

4.尾氣排放，HMDS涂覆完成后排出剩余的氣體，HMDS尾氣處理。

HMDS預(yù)處理烘箱的應(yīng)用：
用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動(dòng)離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變?yōu)槭杷裕鰪?qiáng)表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。